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“FLH:(C09G)”
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201821274185.5-一种氧化铝抛光液的配置装置
不可售
已下证
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申请人:
无锡易洁工业介质有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2018-08-08
主分类号:
C09G1/02
公开号:
208684833U
公开日:
2019-04-02
授权日:
2019-04-02
分类号:
C
0
9
G
1/02
摘要:
本实用新型提供了一种氧化铝抛光液的配置装置,包括第一容器、第一搅拌机、第一泵、砂磨装置、第二泵、第二容器、第二搅拌机以及超声池。其中,第一容器内设有第一搅拌机,第一容器的出口连接至第一泵的入口,第一泵的出口连接至砂磨装置的入口,砂磨装置的出口连接至第二泵的入口,第二泵的出口连接至第二容器的入口,第二容器内设有第二搅拌机,且第二容器置于超声池中。本实用新型的氧化铝抛光液的配置装置利用高速搅拌机、超细研磨装置和超声池的有机结合完成氧化铝抛光液的配置,能够充分的对氧化铝粉进行分散,避免出现团聚现象,获得分散度均匀和悬浮稳定性优良的氧化铝抛光液,从而提高抛光表面质量。
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浏览量:17
200420087940.0-易擦亮皮革护理膜片
不可售
暂无
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申请人:
廖斌
;
雷岸
申请日:
2004-08-12
主分类号:
C09G1/08
公开号:
2734754
公开日:
2005-10-19
授权日:
2005-10-19
分类号:
C
0
9
G
1/08
摘要:
本实用新型公开了一种易擦亮皮革护理膜片,包括EVA泡沫片,在EVA泡沫片上表面上复合有浸有蜡质的棉质层。这种易擦亮皮革护理膜片具有结构简单、外型美观、使用方便、使用效果好、不脏手的优点。
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浏览量:10
201420260188.9-一种循环嵌入式抛光蜡
不可售
无权失效
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申请人:
冯键坤
申请日:
2014-05-21
主分类号:
C09G1/00(2006.01)
公开号:
203960104U
公开日:
2014-11-26
授权日:
2014-11-26
分类号:
C
0
9
G
1/00(2006.01)
;
C
0
9
G
1/02(2006.01)
摘要:
本实用新型涉及抛光产品生产领域,具体的说是一种循环嵌入式抛光蜡,包括蜡体,其一端设有把柄,另一端设有与把柄相配合的凹孔。本实用新型更易手持,操作更加轻松省力。并且可以两两拼接,解决了“蜡头”的问题,操作安全性更高,同时避免了浪费,为企业节约了大量的成本。
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浏览量:31
99108532.9-抛光组合物及其用途
不可售
已下证
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申请人:
不二见株式会社
申请日:
1999-06-22
主分类号:
C09G1/18
公开号:
1240223A
公开日:
2000-01-05
授权日:
2003-12-03
分类号:
C
0
9
G
1/18
;
C
0
9
G
1/02
摘要:
一种用于电阻率最大为0.1Ω·cm的硅晶片的抛光组合物,它包括水,磨料和至少一种作为添加剂选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、碱金属碳酸氢盐、季铵盐、过氧化物或过氧酸化合物的化合物。
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浏览量:34
201810533557.X-一种硅溶胶抛光液
不可售
无权失效
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申请人:
南通盛世祥和纺织品有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2018-05-29
主分类号:
C09G1/02
公开号:
108727991A
公开日:
2018-11-02
分类号:
C
0
9
G
1/02
;
C
0
9
G
1/18
摘要:
本发明公开一种硅溶胶抛光液,其特征在于,按重量百分比包括:0.1%的EDTA二钠盐、0.02%的表面活性剂OP‑10、0.2%的氢氧化钾、0.08%的氯化钾、0.002%的甘油、0.025%的BTA和0.0008%的磷酸钠。该硅溶胶抛光液的配方,C向或A向蓝宝石以及金属件的抛光速率快,且抛完后得到的蓝宝石及金属件表面质量高。
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浏览量:24
01811268.4-金属CMP用的抛光组合物及抛光基材的方法
不可售
已下证
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申请人:
卡伯特微电子公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2001-06-14
主分类号:
C09G1/00
公开号:
1436225A
公开日:
2003-08-13
授权日:
2005-08-31
分类号:
C
0
9
G
1/00
;
C
0
9
G
1/02
摘要:
一种化学机械抛光组合物及浆液,包含一薄膜成形剂及至少一种硅烷化合物,其中该组合物可用于抛光基材部分诸如铜、钽、及氮化钽部分。
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浏览量:27
200410079743.9-用于半导体晶片的抛光组合物
不可售
无权失效
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申请人:
CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2004-09-16
主分类号:
C09G1/00
公开号:
1609155A
公开日:
2005-04-27
授权日:
2007-10-10
分类号:
C
0
9
G
1/00
;
C
0
9
G
1/02
摘要:
适用于抛光半导体晶片的水性组合物。该组合物包含可抑制碳氮化硅去除速率的非离子表面活性剂,且该非离子表面活性剂具有亲水基和疏水基。该疏水基具有大于3的碳链长度。如使用13.8kPa的垂直于晶片的微孔聚氨酯抛光垫板压力所测,该非离子表面活性剂对碳氮化硅去除速率的抑制比其对氮化硅去除速率的减小大至少100埃每分钟。
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浏览量:26
200510035085.8-交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
不可售
暂无
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申请人:
汤汉良
申请日:
2005-06-13
主分类号:
C09G1/16
公开号:
1702135A
公开日:
2005-11-30
分类号:
C
0
9
G
1/16
;
C
0
9
G
1/02
摘要:
本发明涉及一种汽车抛光剂的生产工艺,具体为交联型环保汽车抛光剂的产业化生产。交联型环保汽车抛光剂的产业化生产,工艺流程为:有机硅氧烷改性合成,固化交联体系的配制,改性蜡产品的复配,成品生产。采用交联型环保汽车抛光剂的产业化生产工艺技术成熟,该工艺能大规模生产出交联型环保汽车抛光剂,生产的抛光剂具有增光、保光、抗划伤、抗紫外线老化的功能,产品无毒,市场前景广阔。
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浏览量:23
200410101122.6-浆料成分及利用其的CMP方法
不可售
无权失效
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申请人:
三星电子株式会社
申请日:
2004-12-13
主分类号:
C09G1/02
公开号:
1637102A
公开日:
2005-07-13
授权日:
2009-08-12
分类号:
C
0
9
G
1/02
;
C
0
9
G
1/16
摘要:
本发明的示例性实施例提供一种新的浆料成分,该新的浆料成分适合用于包括对多晶硅层化学机械抛光(CMP)的工艺。该浆料成分包括一种或多种非离子聚合物表面活性剂,该表面活性剂选择地在多晶硅的暴露表面上形成钝化层,以便于抑制相对于氧化硅和氮化硅的多晶硅除去速率并提高抛光衬底的平坦度。示例性的表面活性剂包括环氧乙烷(EO)和环氧丙烷(PO)嵌段共聚物的烷基或芳基醇,并以高达大约5wt%的量存在于浆料成分中,虽然更小的浓度有效。其它浆料添加剂可以包括粘度调节剂、pH调节剂、分散剂、螯合剂、以及适合用于调节氮化硅和氧化硅的相对除去速率的胺或亚胺表面活性剂。
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浏览量:32
201620309073.3-一种氧化铝抛光液配置装置
不可售
已下证
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申请人:
天津西美科技有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2016-04-14
主分类号:
C09G1/02(2006.01)
公开号:
205710554U
公开日:
2016-11-23
授权日:
2016-11-23
分类号:
C
0
9
G
1/02(2006.01)
摘要:
本实用新型属于抛光液加工装置领域,尤其涉及一种氧化铝抛光液配置装置,其特征在于:所述研钵固定于所述固定架上,所述研磨辊的下端设置于研钵内并且其上端与第一电机相连,所述进液管的一端穿过所述罐体设置于研钵的上方,所述第二电机固定于罐体的底部,所述搅拌轴设置于罐体内部,所述搅拌轴的一端与所述第二电机相连并且其另一端与搅拌叶相连,所述搅拌叶位于固定架下方,所述排液管的一端与罐体的底部连通并且其另一端与集液罐连通,所述排液管上固定有过滤器、第一阀门,所述缓冲罐位于集液罐上方,所述第一连接管的一端与集液罐上端相连并且其另一端与缓冲罐下端相连,所述第二连接管的一端与抽气泵相连并且其另一端与缓冲罐的上端相连。
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浏览量:7
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