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201721363552.4-一种制造超大面积纳米压印无缝图案的装置
不可售
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申请人:
长春工业大学
申请日:
2017-10-22
主分类号:
G03F7/00
公开号:
207301617U
公开日:
2018-05-01
授权日:
2018-05-01
分类号:
G
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3
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7/00
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G
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3
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G
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7/20
摘要:
本实用新型涉及一种制造超大面积纳米压印无缝图案的装置,属于紫外纳米压印领域。收卷辊用于将衬底卷收起来,放卷辊用于放出衬底,滚筒压印装置位于收卷辊和放卷辊之间,收卷辊与放卷辊工作时保持同步旋转,涂胶装置中含有光刻胶,用于在衬底上涂抹一层均匀的光刻胶,滚筒压印装置用于将压印模板上的微小图案压印于涂完胶的衬底上,支撑辊一,支撑辊二,支撑辊三,支撑辊四,均为可透光的圆柱形,支撑辊二,支撑辊三,支撑辊四中均放置有紫外固化装置。优点是精确调控各模板以及紫外灯可固化的距离,能够制造出超大面积的纳米压印无缝图案,加入了多个压印辊同时进行压印超大型图案,提高了纳米压印的生产效率。
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浏览量:14
89200999.3-数控光电刻版机
不可售
暂无
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申请人:
福建省南平市五○四厂
申请日:
1989-01-21
主分类号:
G03F7/20
公开号:
2053762U
公开日:
1990-02-28
授权日:
1990-02-28
分类号:
G
0
3
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7/20
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G
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3
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1/00
摘要:
一种数控光电刻版机,可对不同的图文底稿进行不同次数的曝光,实现蜡版刻制。提高了蜡版刻制的效率和质量。整机的主要构成包括:数支红外闪光灯管以及与其相对应的呈抛物面形的反光镜;设有曝光工作台面、上盖、手柄、数字显示器、指示灯的机壳,由数字控制电路实现对闪光灯管的闪光次数以及全部工作过程的控制。
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浏览量:14
86206408.2-电子符合型中文光学并行自动照相排字机
不可售
暂无
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申请人:
林宇威
申请日:
1986-09-02
主分类号:
G03F7/00
公开号:
86206408U
公开日:
1987-09-30
授权日:
1987-09-30
分类号:
G
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3
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7/00
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G
0
3
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7/14
摘要:
电子符合型中文光学并行自动照相排字机是一种采用符合选字原理制造的、整页版面同时进行排版的新型光学自动照相排字机。既可采用代码直接在机上进行手动排版,也可利用穿孔卡片进行快速自动排版。它具有字模库(字库胶带)运动方式极为简单(仅需作单方向移动)、字质优良、控制电路简单(不需采用复杂的计算机控制技术)等优点,因而比较容易制造、容易使用和容易维修,造价较低,易于推广。
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浏览量:111
99258838.3-台式曝光烘干装置
不可售
暂无
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申请人:
陈凯
申请日:
1999-12-31
主分类号:
G03F7/20
公开号:
2405247Y
公开日:
2000-11-08
授权日:
2000-11-08
分类号:
G
0
3
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7/20
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G
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3
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7/26
摘要:
一种台式曝光烘干装置,包括台式外壳1、含有灯管组件31和曝光台32的曝光部3,含有发热元件51、均热隔板52和烘干网53的烘干部5,以及电控部7。所述曝光部3、烘干部5和电控部7一同安装在台式外壳1内。并将所述电控部7的控制元件分别与灯管组件31和发热元件51相连。本实用新型台式曝光烘干装置集曝光、烘干和控制于一体,在台式装置中采用真空吸版,均匀曝光,边缘清晰;预定曝光时间,准确控制烘干时间和温度,制版效果良好;结构紧凑,易于推广普及。
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浏览量:62
88216405.8-定位式拼版机
不可售
无权失效
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申请人:
孙书琴
申请日:
1988-12-17
主分类号:
G03F7/20
公开号:
88216405.8Y
公开日:
1990-02-21
授权日:
1990-02-21
分类号:
G
0
3
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G
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3
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7/22
摘要:
无
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浏览量:9
201821346226.7-光罩弯曲校正装置及曝光机
不可售
已下证
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申请人:
咸阳彩虹光电科技有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2018-08-21
主分类号:
G03F1/64
公开号:
208673039U
公开日:
2019-03-29
授权日:
2019-03-29
分类号:
G
0
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1/64
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G
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7/20
摘要:
本实用新型涉及一种光罩弯曲校正装置及曝光机,所述光罩弯曲校正装置包括第一光罩保持架、第二光罩保持架及抽真空装置,其中,所述第一光罩保持架为方框形结构,其下表面包括多个第一吸附口,以吸附所述光罩的四周部分;所述第二光罩保持架为杆状结构且与所述第一光罩保持架构成日字形结构,所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口,以吸附所述光罩的中间部分;所述第一光罩保持架和所述第二光罩保持架分别包括连接至抽真空装置的真空接口。该光罩弯曲校正装置设置有第一光罩保持架和第二光罩保持架,能够很大程度上减少曝光过程中光罩自身重力导致的下垂,避免光罩上的图案在转印过程中发生失真现象。
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浏览量:6
200420011463.X-一种圆柱面光栅光刻刻划机
不可售
暂无
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申请人:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日:
2004-01-10
主分类号:
G03F7/20
公开号:
2676244Y
公开日:
2005-02-02
授权日:
2005-02-02
分类号:
G
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7/00
摘要:
本实用新型公开一种圆柱面光栅光刻刻划机,属于光学精密刻划技术领域中涉及的一种圆柱面光栅光刻刻划机,本实用新型要解决的技术问题是:提供一种圆柱面光栅光刻刻划机。解决技术问题的技术方案是:包括床身、传动系统、分度机构和曝光系统。该机是在原来平面光栅光刻机的基础上,继续采用原来的床身、分度机构,对传动系统作了少许的改动,重新设计了曝光系统,使得光线由垂直照射光刻平面光栅变为光线水平照射光刻圆柱侧面,刻线方向平行于圆柱面的轴线,成为圆柱面光栅,该机成为圆柱面光栅光刻刻划机。
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浏览量:8
02274235.2-一种专用于微流控芯片制作的光刻机
不可售
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申请人:
中国科学院大连化学物理研究所
申请日:
2002-07-18
主分类号:
G03F7/00
公开号:
2555525Y
公开日:
2003-06-11
授权日:
2003-06-11
分类号:
G
0
3
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7/00
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摘要:
一种专用于微流控芯片制作光刻机,其特征在于:该光刻机主要由一暗箱、一高压汞灯、一匀光透镜组合而成,高压汞灯置于暗箱中并装在箱壁上,匀光透镜置于与其相对的箱壁上。本实用新型造价低廉,性能可靠,结构简单,操作方便。
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浏览量:29
02259795.6-单面防焊曝光机
不可售
无权失效
权利转移
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申请人:
川宝科技股份有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2002-10-09
主分类号:
G03F7/20
公开号:
2578864Y
公开日:
2003-10-08
授权日:
2003-10-08
分类号:
G
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摘要:
本实用新型涉及一种单面防焊曝光机,于曝光机的机台设置包括有:一曝光装置;一影像拾取装置,设于该曝光框与曝光装置之间,而将一对CCD摄像机,各以一组纵向与横向搭配的驱动皮带,调整其位置,并将摄影的影像自一显示器输出;以及一对位装置,设于该曝光框下方,其于最底端设置一基板,再于基板上固设一定位板,而定位板上方以横向导轨设置一可横向驱动的横移板;另于该横移板上方以数球体支撑座设置一可纵向与转向驱动的对位板;此外,该对位板设有数直立套管,供一曝光台面以数导柱安装于此,且该曝光台面设有一直立的螺杆,并以一马达经由螺杆驱动曝光台面升降,另于曝光台面前侧设有一对可隐藏的定位销。
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201821254256.5-掩模板热效应补偿的补偿装置
不可售
已下证
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申请人:
长鑫存储技术有限公司
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企查查
天眼查
启信宝
申请日:
2018-08-06
主分类号:
G03F7/20
公开号:
208689362U
公开日:
2019-04-02
授权日:
2019-04-02
分类号:
G
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摘要:
本实用新型提供一种掩模板热效应补偿的补偿装置,涉及半导体集成电路技术领域,该补偿装置包含一光刻曝光机,用于对同一批次的多片晶圆进行曝光,其特征在于,所述光刻曝光机内设置光掩模板,所述光掩模板包含透光基板及形成于所述透光基板表面的掩模图案层,所述光刻曝光机还包括补偿值处理单元、确认单元、扫描仪和叠对测量单元;通过在曝光机上设置补偿值处理单元,用于收集光刻曝光过程中热量数据以及叠对测量单元测到的图案偏移数据,计算出需要修正的温度补偿值,以避免光刻曝光机上光掩模板太热造成晶圆曝光图案叠对偏移过多的现象,从而大大提高了晶圆产品良率。
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浏览量:7
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